دستگاه پوشش پودری الکترواستاتیک

تجهیزات پوشش خلاء، عمدتاً به نوعی از پوشش اشاره دارد که باید تحت خلاء بالا انجام شود، از جمله بسیاری از انواع، از جمله تبخیر یون خلاء، کندوپاش مگنترون، اپیتاکسی پرتو مولکولی MBE، رسوب کندوپاش لیزر PLD و بسیاری دیگر. پوشش تبخیر به طور معمول، هدف برای تبخیر اجزای سطح به شکل رادیکال ها یا یون ها گرم می شود. و بر روی سطح بستر می نشیند تا از طریق فرآیند تشکیل فیلم (نقطه پراکنده - ساختار جزیره - ساختار واگ - رشد لایه ای) یک لایه نازک تشکیل دهد. برای پوشش‌های پراکنده، می‌توان آن را به سادگی بمباران هدف با الکترون‌ها یا لیزرهای پرانرژی و کندوپاش کردن اجزای سطح به شکل گروه‌ها یا یون‌های اتمی و در نهایت رسوب دادن آن‌ها بر روی بستر درک کرد.

سطح تحت فرآیند تشکیل فیلم قرار می گیرد و در نهایت یک لایه نازک تشکیل می شود.

دو روش اصلی برای پوشش خلاء وجود دارد: روش پوشش تبخیر حرارتی و روش کندوپاش مگنترون. این مقاله عمدتاً روش پوشش تبخیر حرارتی رایج را معرفی می کند. اصل کار روش پوشش تبخیر حرارتی خلاء به این صورت است که در محیط خلاء، جامد برای تبدیل به حالت گازی تبخیر شده و در نهایت بر روی سطح محصول پوشش داده شده رسوب می‌کند. جریان روش پوشش خاص در شکل 1 نشان داده شده است. خلاء در اینجا به این معنی است که فشار فضای ظرف حدود 10-3 Pa است. در این حالت، مواد خام جامد تبخیر شده

ذرات گازی مواد می توانند به آرامی به سطح محصول پوشش داده شده برسند. دو روش گرمایشی رایج برای پوشش تبخیر حرارتی خلاء وجود دارد: گرمایش مقاومتی و گرمایش با تفنگ الکترونی. نوع گرمایش مقاومتی این است که مقاومت را با انرژی دادن برای رسیدن به هدف گرم کردن مواد پوشش، گرما را از بین ببرد. نوع گرمایش تفنگ الکترونی به این صورت است که پرتو الکترونی ساطع شده توسط تفنگ الکترونی مستقیماً به ماده پوشش برخورد می کند و در نتیجه برای رسیدن به هدف گرم کردن مواد پوشش گرما ایجاد می کند.

کاربرد

پارامتر

کارخانه ی ما

تگ های محبوب: دستگاه پوشش پودر الکترواستاتیک، چین، تامین کنندگان، تولید کنندگان، کارخانه، سفارشی، خرید، قیمت، نقل قول