دستگاه پوشش PVD کوچک

جریان فرآیند اصلی پوشش تبخیری عبارت است از:

آماده‌سازی قبل از آبکاری → جاروبرقی → بمباران یونی → پخت

1. آماده سازی قبل از آبکاری

این فرآیند شامل تمیز کردن قطعات آبکاری، تولید و تمیز کردن منبع تبخیر، تمیز کردن لوازم آبکاری در محفظه خلاء، نصب منبع تبخیر، نصب قطعات آبکاری و غیره است.

(1) تمیز کردن و جابجایی قطعات آبکاری شده:

اندازه نیروی پیوند بین لایه فیلم و سطح قسمت آبکاری شده یک شاخص مهم برای کیفیت محصول است. این توسط عوامل زیادی تعیین می شود و عملیات سطح قبل از پوشش یکی از اساسی ترین عوامل است. اگر روی سطح قسمت آبکاری شده گریس، آب جذب شده، گرد و غبار و غیره وجود داشته باشد، نیروی چسبندگی فیلم را کاهش داده و زبری سطح را تحت تأثیر قرار می دهد.

چربی زدایی شیمیایی قطعات مختلف فلزی و غیرفلزی اندود شده باید فرآیند چربی زدایی و چربی زدایی مربوطه را اتخاذ کنند. برای روش های خاص، می توانید برای مشاهده مقالات مرتبط، چربی زدایی را در ستون فنی این وب سایت جستجو کنید.

رسوب دهنده الکترواستاتیک. قطعات آبکاری شده به راحتی با الکتریسیته ساکن در طول فرآیند قالب‌گیری شارژ می‌شوند، که می‌تواند باعث ایجاد سوراخ‌هایی در لایه فیلم یا کاهش نیروی پیوند فیلم شود، بنابراین قبل از اعمال پرایمر، الکتریسیته ساکن باید حذف شود.

آغازگر. به طور کلی، ضخامت لایه در کف تبخیر {{0}} است. فیلم به اندازه کافی برای پر کردن چاله ها دور است. به منظور کاهش زبری سطح، معمولاً یک پرایمر مخصوص 7 ~ 10 میلی متر روی سطح قطعات آبکاری شده اعمال می شود تا گودال ها را از بین ببرد و اثر تسطیح سطح را به دست آورد.

(2) تولید منبع تبخیر:

با توجه به الزامات استفاده از محصول و جنس قطعات آبکاری شده، انتخاب ماده تبخیر مناسب شرط اساسی برای به دست آوردن یک فیلم با کیفیت است.

اصول اولیه انتخاب مواد فیلم فلزی عبارتند از: پایداری حرارتی و پایداری شیمیایی خوب، استحکام مکانیکی بالا، تنش داخلی کم و چقرمگی خاص، اتصال خوب با پرایمر، بازتاب بالا و خروج گاز در خلاء. کم اهمیت؛ منابع مواد گسترده، قیمت های پایین و منابع تبخیر مربوطه.

مواد تبخیر مختلف باید منبع تبخیر مربوطه و روش آبکاری تبخیر را انتخاب کنند.

(3) تمیز کردن محفظه خلاء و فیکسچر آبکاری:

اگر محفظه خلاء با پوشش داخلی آلوده باشد، می توان پوشش را برای تمیز کردن یا تجدید جدا کرد. اگر پوشش داخلی وجود نداشته باشد، می توان آن را با کربنات کلسیم پاک کرد، سپس با آب پاک کرد و در نهایت با اتانول بی آب پاک کرد.

وسایل آلومینیومی معمولی را می توان در محلول 20 درصد NaOH خیس کرد تا زمانی که سطح آن قهوه ای شود، سپس با آب جاری شسته شود، در HNO3 خیس شود تا زمانی که رنگ قهوه ای از بین برود، و سپس شسته و خشک شود.

(4) منبع تبخیر را نصب کنید:

مراقب باشید که دستکش های چربی زدایی بپوشید و ابزارها باید از قبل چربی زدایی شوند. به تماس خوب بین منبع تبخیر و الکترود توجه ویژه ای داشته باشید.

(5) قطعات آبکاری شده را قرار دهید:

باید روی زمین قطعات آبکاری شده و قطعات آبکاری شده به طور ثابت و محکم قرار گیرد تا به دلیل چرخش فیکسچر در حین تبخیر، قطعات آبکاری شده از فیکسچر دور پرتاب نشوند. دستکش‌های چربی‌گیر بپوشید، صحبت نکنید و قسمت آبکاری شده را تمیز نگه دارید.

2. مرحله وکیوم

شیر آب خنک کننده را باز کنید، فشار آب مورد نیاز را تنظیم کنید، منبع تغذیه اصلی را وصل کنید، شیر اتمسفر منتهی به محفظه خلاء را ببندید، شیر خط لوله را ببندید، منبع تغذیه پمپ مکانیکی را راه اندازی کنید و شیر پیش خلاء را باز کنید. در این زمان، پمپ مکانیکی محفظه خلاء را تخلیه می کند، سپس بمباران رسانایی، قدرت گرمایش پمپ انتشار را روشن می کند و شیر پیش خلاء را می بندد. هنگامی که پمپ انتشار به نیازهای کاری رسید، شیر خلاء را ببندید، شیر خط لوله را باز کنید و شیر خلاء بالا را باز کنید. پمپ انتشار، پمپ مکانیکی برای پمپ کردن محفظه خلاء، هنگامی که خلاء به مقدار معینی رسید، پخت، پیش ذوب و تبخیر می شود.

3. بمباران یونی

در حین تخلیه تابش، یون ها الکترون ها را بمباران می کنند تا سرعت بالایی به دست آورند و قطعات آبکاری شده به دلیل تحرک زیاد الکترون ها به سرعت بار منفی می شوند. تبادل انرژی در سطح وجود دارد و یک واکنش شیمیایی بین لایه جذبی قطعه آبکاری و گاز فعال برای رسیدن به اثر تمیز کردن سطح رخ می دهد.

شرایط بمباران یونی این است که فشار گاز باقیمانده در 0.13~13Pa پایدار باشد، ولتاژ 1.5~10kV و زمان آن 5~60min باشد.

4. پخت

این می تواند خروج سریع گاز جذب شده توسط قسمت آبکاری شده یا فیکسچر را تسریع کند، که برای بهبود درجه خلاء و نیروی پیوند لایه فیلم مفید است. هنگام پخت، باید توجه داشت که دمای پخت برای قطعات غیر فلزی باید 20 تا 30 درجه کمتر از دمای تغییر شکل حرارتی قطعه آبکاری شده باشد. پخت فلز معمولاً از 200 درجه تجاوز نمی کند.

5. پیش ذوب

این می تواند ناخالصی های نقطه ذوب پایین در مواد تبخیر و گاز جذب شده در منبع تبخیر و مواد تبخیر را حذف کند، که منجر به پیشرفت صاف تبخیر می شود. این ماده باید بارها و بارها از قبل ذوب شود و نیاز کلی این است که وقتی ماده تبخیر تا دمای تبخیر گرم می شود، درجه خلاء کاهش نمی یابد.

6. تبخیر

تکنولوژی تبخیر تاثیر زیادی بر کیفیت پوشش دارد و برای فلزات عمومی، فلزات خاص و ترکیبات مورد نیاز متفاوت است. به عنوان مثال، برخی از فلزات باید به سرعت تبخیر شوند، در حالی که برخی دیگر مناسب نیستند. روش گرمایش و شکل منبع تبخیر نیز باید بستگی به ماده تبخیر داشته باشد.

Longkou Bit در تولید تجهیزات پوشش خلاء PVD تخصص دارد و فروش تجهیزات PVD، فروش لوازم جانبی خلاء و مواد مصرفی، تعمیر و نگهداری و تعمیر، مشاوره فنی، کلید در دست و سایر خدمات را به مشتریان ارائه می دهد. تجهیزات PVD عمدتاً شامل: تجهیزات پوشش خلاء یون چند قوس، تجهیزات پوشش خلاء کندوپاش مگنترون، تجهیزات پوشش خلاء سری تبخیر و سایر مونومرهای پوشش خلاء کامپوزیت و تجهیزات خط پیوسته، عمدتاً برای فلز و غیر فلز، پلاستیک، مواد کامپوزیت و سایر سطوح استفاده می شود. پروژه های تصفیه، تجهیزات پوشش خلاء در صنایع مختلف از جمله سخت افزار، قالب، سرامیک، لوازم بهداشتی، ساعت، 3C، اپتیک، لوازم آرایشی، خودرو، ارتباطات و سایر صنایع استفاده می شود.

کاربرد

پارامتر

کارخانه ی ما

تگ های محبوب: دستگاه پوشش کوچک pvd، چین، تامین کنندگان، تولید کنندگان، کارخانه، سفارشی، خرید، قیمت، نقل قول